干膜曝光能量多少格合适

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    干膜曝光能量6-8格合适。干膜是相对湿膜而言的,是一种高分子材料,它通过紫外线的照射后能够产生一种聚合反应,形成一种稳定的物质附着于板面,从而达到阻挡电镀和蚀刻的功能。干膜是制作印刷电路板的重要耗材,广泛应用于微电子行业和电路板制造行业。干膜曝光一段时间后,经显影,光致抗蚀层已全部或大部分聚合,并具有技术条件所要求的抗蚀性能,该时间称为最短曝光时间或最小曝光量。将曝光时间继续延长,使光致抗蚀剂聚合得更彻底,且能正常显影,显影后得到的图文尺寸仍与照相底版尺寸相符,显影后的抗蚀层满足技术条件要求的抗蚀性能及附着性能,该时间称为最大曝光时间或最大曝光量。
    
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